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國產(chǎn)光刻機現(xiàn)在是什么水平?

浪起激光2020-06-16119150
中國的芯片制造是中國科技界心中永遠的傷痛。

雖然現(xiàn)在我們可以獨立制造出中低端的芯片,但對于高端芯片仍然無能為力,就因為我們沒有制造高端芯片的光刻機!
有人斷言,EUV光刻機太先進了,如果我國未來5年可以買到,就能夠保證至少10年的半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展,那中國將會成為難以壓制的對手。然而,無奈的是,中芯國際多次向ASML提出購買光刻機設備,卻因為美國的阻撓等種種原因,ASML久久未能交貨。
按照用途,光刻機可分為生產(chǎn)芯片的光刻機、用于封裝的光刻機、用于LED制造領域的投影光刻機這三種。其中用于生產(chǎn)芯片的光刻機是中國在半導體設備制造上最大的短板,國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。國內在這一領域差距太大,要想在短期內實現(xiàn)國產(chǎn)替代并不現(xiàn)實。
那國產(chǎn)的光刻機目前達到什么水平了?
目前,中國最牛的光刻機生產(chǎn)商是上海微電子裝備公司(SMEE),它可以做到的最精密的加工制程是90nm,這就好比2020年的電腦還在使用2004年最新款的intel奔騰四處理器,也即是說,中國光刻機與荷蘭光刻機之間有著至少15年的差距……
據(jù)媒體報道,上海微電子裝備公司新一代的28nm浸沒式光刻機預計今年可以完成,但即使順利也得明年才能導入產(chǎn)線試產(chǎn)。

國產(chǎn)光刻機現(xiàn)在是什么水平?

此前,我國在重大專項計劃中提出,2020年要實現(xiàn)22nm制程光刻機的突破,但目前還沒有成功的消息。即便實現(xiàn)這一突破,距離最先進的7nm以下的EUV光刻機仍然遙遠。
但好消息是,由于該技術進步空間非常有限,隨著制程的不斷縮小,繼續(xù)壓縮制程的難度越來越大,留給我們還有相對充足的追趕時間。
只是我國在自主研發(fā)制造光刻機這件事上,因為美國的技術封鎖,需要拿出單挑全世界的大氣魄,跟整個西方科技界死磕到底!


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